Obiekt
Tytuł: Właściwości elektronowe cienkich warstw szkliw kowalencyjnych wytwarzanych w plazmowym reaktorze trójelektrodowym z tetraalkilowych pochodnych węglowców
Promotor:
Wydawca:
Miejsce wydania:
Uwagi:
Digitalizację przeprowadzono ze środków konsorcjum Łódzkiej Akademickiej Sieci Bibliotecznej w ramach projektu CYBRA 2 ; 158 str.
Język:
Format:
Identyfikator:
oai:cybra.p.lodz.pl:10889 ; 224/Pr
Digitalizacja:
Biblioteka Politechniki Łódzkiej. Oddział Tworzenia Zasobów Cyfrowych.
Lokalizacja oryginału:
Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:
- CYBRA Łódzka Regionalna Biblioteka Cyfrowa > Centrum Badań Molekularnych i Makromolekularnych Polskiej Akademii Nauk
Data ostatniej modyfikacji:
2015-02-20
Data dodania obiektu:
2014-09-19
Liczba wyświetleń treści obiektu:
153
Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:
https://cybra.lodz.pl/publication/11443
