Obiekt

Ta publikacja jest chroniona prawem autorskim. Dostęp do jej cyfrowej wersji jest możliwy po zalogowaniu.
Ta publikacja jest chroniona prawem autorskim. Dostęp do jej cyfrowej wersji jest możliwy po zalogowaniu.

Tytuł: Właściwości elektronowe cienkich warstw szkliw kowalencyjnych wytwarzanych w plazmowym reaktorze trójelektrodowym z tetraalkilowych pochodnych węglowców

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

2015-02-20

Data dodania obiektu:

2014-09-19

Liczba wyświetleń treści obiektu:

153

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://cybra.lodz.pl/publication/11443

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Obiekty

Podobne

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji